顿磊：激光清洗≠激光烧灼

有人说激光清洗就是激光烧灼， 顿磊表示不认可。

目前常用的激光有三种：波长1064nm的光纤激光、10600nm的二氧化碳激光，还有355nm的紫外激光。这三种又能分成脉冲和连续两种类型。

光纤激光和二氧化碳激光主要靠“烧蚀”，但紫外激光不一样，它靠的是光化学作用，它在清洗过程中几乎不产生热量，俗称冷光源。具体来说，光纤激光对导体和半导体材料管用，二氧化碳激光主要对付绝缘体，紫外激光则啥材料都能搞定，但价格相当昂贵。

光纤激光和二氧化碳激光清洗时，是靠激光把脏东西烧成气体弄没的，这属于热效应；紫外激光就像把分子键打断，有点像电解水，水变成氢气和氧气消失了，所以它清洗时几乎不产热，就算有也特别少。

从微观上怎么理解呢？激光也是光，速度跟阳光一样，都是3×10⁸米/秒。不同的光波长和振动频率不一样，波长乘以频率就等于光速，所以波长不同，频率也不同。比如光纤激光波长1064nm，它的频率就是3×10⁸除以1064；二氧化碳激光波长10600nm，频率就是3×10⁸除以10600。

金属分子振动活跃，当它的振动频率和激光频率一样时，就会共振，分子间摩擦力突然变大，瞬间产生大量热，超过气化点，脏东西就变成气体没了。绝缘材料分子运动不活跃，刚好和二氧化碳激光的频率对上，激光一照就共振、产热、气化。

紫外激光跟它们俩完全不同，它的波长短，振动频率高、单光子能量大，能打断几乎所有材料的分子键。

其实激光清洗有点像洗脸，都是只去掉脏东西，不伤害本身。而且激光特别好控制，精细度高，能做到微米级清洗，比如芯片清洗，目前也就激光能做到。

随着各种波长的激光器越来越多，激光清洗能发挥的地方也越来越大。像激光除锈、除漆，清洗模具、电路板等等，都只是它的一小部分应用。

总的来说，激光清洗分热清洗和冷清洗。光纤激光和二氧化碳激光属于热清洗，靠共振产热把东西气化；紫外激光是冷清洗，不产热，靠打断分子键让脏东西分解。