“十四五”国家重点出版物出版规划项目:先进芯片材料与后摩尔芯片技术丛书 ——《玻璃通孔技术》

源自公众号:TUP理工出版

01-16 15:44

随着摩尔定律放缓,芯片封装技术成为关键。玻璃基板因其优异特性,被视为下一代大算力芯片封装的核心。这本《玻璃通孔技术》系统梳理了从材料到应用的全链路知识,旨在打通产学研壁垒,为我国在该领域抢占技术先机提供关键参考。

“十四五”国家重点出版物出版规划项目:先进芯片材料与后摩尔芯片技术丛书 ——《玻璃通孔技术》智能速览

  • 玻璃基板因高绝缘、高稳定等特性,成为支撑下一代大算力芯片封装的关键材料。

  • 全球AI算力需求激增,推动玻璃基板技术处于产业应用爆发前夜,中外技术水平基本持平。

  • 玻璃通孔(TGV)是实现玻璃基板高密度三维互连的核心技术。

  • 本书涵盖玻璃制造、通孔加工、金属填充、表面布线及封装应用等全链路技术。

  • 发展玻璃通孔技术对支撑国家AI战略、保障信息安全及推动产业跨越式发展意义重大。

“十四五”国家重点出版物出版规划项目:先进芯片材料与后摩尔芯片技术丛书 ——《玻璃通孔技术》精华内容

深入探讨玻璃通孔技术,不仅是理解一项工艺,更是洞察后摩尔时代封装技术变革的窗口。其发展路径与产业机遇,值得我们细致剖析。

玻璃的天然优势

玻璃兼具高模量、高硬度、低热膨胀系数与低介电常数等特性,使其成为光电器件、微机电系统及高密度封装基板的理想材料。

这些特性意味着玻璃基板在信号传输过程中损耗更低,能更好地满足高频、高速芯片的性能要求。其优异的热稳定性与尺寸稳定性,也有效解决了大尺寸有机基板面临的翘曲问题。

因此,玻璃基板在支撑AI芯片等大算力应用上,展现出超越传统材料的潜力。

TGV核心工艺详解

实现玻璃基板高密度互连的核心在于玻璃通孔(TGV)技术,其工艺链主要包含成孔、填充与布线三大环节。

在成孔阶段,超快激光诱导刻蚀是主流方法,通过调控激光参数与湿法刻蚀工艺,可制备高深宽比的微孔。

孔内金属填充多采用电镀铜技术,需要先沉积铜种子层,再通过特定电镀配方实现无空洞填充。后续的表面布线则通过半加成法或大马士革工艺制造精细线路,最终完成电气连接。

前沿封装应用

玻璃通孔技术的应用场景正不断拓宽,已在多种先进封装形式中展现价值。

作为转接板,TGV可为CPU、GPU等芯片提供2.5D/3D集成方案,实现芯片间高速互连。在扇出型封装中,它能将芯片埋入玻璃基板,提升集成度与散热性能。

此外,利用玻璃特性制作的集成无源器件和光电共封装技术,能有效减小系统尺寸、提升信号质量,为未来高性能计算系统提供了新的可能。

产业机遇与挑战

当前,全球半导体产业正值变革期,玻璃基板封装技术被视为下一个竞争焦点。我国在该领域的技术积累与国外基本处于同一起跑线,这为抢占产业制高点提供了宝贵机遇。

然而,挑战依然存在,包括核心材料的持续优化、关键工艺装备的国产化、以及从实验室到量产的可靠性验证等。

通过系统性的知识梳理与产学研协同创新,加速推动玻璃通孔技术的应用,对保障国家信息安全、支撑AI战略及实现集成电路产业跨越式发展具有深远的战略意义。

综上,《玻璃通孔技术》不仅系统梳理了一项前沿工艺,更描绘了我国芯片产业在后摩尔时代的一条可行发展路径。随着技术成熟与生态构建,玻璃基板能否真正引领封装领域的下一次革命?

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