俄罗斯公布EUV光刻机路线图,2036年冲刺10nm以下量产

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05-20 16:13

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1. 国产光刻机什么时候能够达到荷兰asml的水平?

2. 日本百年光学巨头尼康发布了极其惨淡的2025财年业绩预告,预计将出现高达850亿日元的巨额亏损,创下公司成立以来的历史最差纪录。数据显示,尼康光刻机业务已陷入绝境,过去半年仅出货9台设备,且全部为技术陈旧的成熟制程老款,毫无高端竞争力。而同期荷兰ASML狂销160台,其中高端EUV光刻机占20余台,技术代差极其显著。市场份额方面,尼康曾在2001年占据全球光刻机市场约40%份额,如今按金额计算已跌至个位数,沦为全球第三,被ASML与佳能远远甩开。深层原因在于技术路线的连环失误,尼康早年错失浸没式光刻技术先机,又在EUV研发中坚持"全自研"策略,被排除在ASML主导的EUV联盟之外,核心光源技术遭切断。超千亿日元的EUV投入最终仅换来无法商用的原型机,商业化开发被迫终止,彻底错失技术迭代窗口。

3. 美国先突破稀土全自主供应,还是中国先突破EUV光刻机全自主制造?

4. 都2026年了,为什么ASML还在研究“上一代”DUV?【硅谷101】

5. #中国芯片攻关取得新突破# 这应该是最重要的场合、最高级别的领导,第一次正式回答这个问题。字少事大不仅是“突破”,还是“新”突破。中国造芯片这条路面临的需要进步的地方很多,设计软件、光刻机、3nm 5nm等更高制程等等,我们从很多小到消息听说过光刻机的进步。不知道这次阴和俊部长提到的突破具体指的是哪一个,大概率应该是芯片的制造设备——光刻机。开源大模型指的是deepseek,如果按照中文语境来理解,芯片攻关上的进步应该也非常大。只不过不能说的太细。

6. 不止EUV光刻机:ASML计划进军先进封装赛道。看到这个消息,我感慨万千。以前ASML靠光刻机称霸全球。现在它也要做先进封装了。为什么?因为AI芯片太火了。传统光刻机已经不够用了。封装技术成为新的战场。这就是芯片行业的趋势:单点突破不够了。要全链路布局。才能赢。#ASML##光刻机##AI##芯片##半导体#

7. 光刻胶在半导体制造里 那可是相当重要,说是“命门”材料也不为过。芯片制造的光刻环节,光刻胶能把设计好的电路图案精确转移到硅片上,直接影响芯片的性能和质量。 之前我国光刻胶市场大多依赖进口,一旦供应出问题,半导体产业就会面临危机。不过近年来国产光刻胶厂商不断发力,像某些企业已经在部分光刻胶产品上取得技术突破,实现量产。实现光刻胶国产化,能让我们的半导体供应链更稳定,减少外部制约,也能降低成本。未来,国产光刻胶有望撑起半导体产业发展的一片天!

8. 俄罗斯光刻机路线图曝光,2036年冲刺10nm以下

9. 俄罗斯:我们拥有EUV光刻机核心技术,会比中国更快造出光刻机!

10. 俄罗斯:我们拥有EUV光刻机关键技术,会比中国更早造出光刻机

11. 俄罗斯放狠话:比中国更快造出光刻机!却还差关键一样东西!

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