英特尔或将冲击1nm工艺：用上新一代光刻机

英特尔此前曾多次表示半导体工艺会继续提升下去，虽然近年来取得的成就没在行业领先，不过作为半导体巨头来说自是要不断引领时代的脚步，在已公布的5代CPU工艺后，有消息传来英特尔现已启动后两代工艺的定义及研发准备工作。

根据 IMEC 公布的路线图来看，2024年的2nm工艺，在之后是2026年的14A也就是1.4nm工艺，而2028年则来到了A10即1nm，而晶体管的极限将会在2036年达成。

随之而来的自然还有新一代的光刻机，ASML也将会对光刻机进行更新迭代，ASML预计将会在2026年推出全新一代基于High NA技术的EUV光刻机 EXE：5000系列，将在NA指标从当前的0.33提升到0.55，进一步提升光刻机分辨率，不过价格自然也会暴涨，从目前的1.5亿美元来到4亿美元。