ASML新一代光刻机出炉,芯片会更便宜吗?
源自70位全网作者
05-22 17:06
精选参考来源
1
全球光刻机巨头 ASML 突破 EUV 光源瓶颈,芯片产能有望大幅跃升!ASML 今日披露了一项关键技术突破:通过将激光照射的锡滴数量翻倍。对于全球芯片制造商而言,这相当于在不增加机器台数的前提下,凭空多出了三分之一的产能。 黎启lee的微博视频
2
【台积电亮出新一代芯片技术 拟绕开ASML天价设备】据媒体报道,台积电周三公布了其最新一代芯片制造技术,并透露,即便不使用阿斯麦昂贵的新一代光刻设备,也能制造出更小、更快的芯片。此次公布了两项技术改进:一项名为“A13”,计划于2029年投入量产,有望应用于人工智能芯片。另一项名为“N2U”,是一种更具成本效益的方案,适用于手机、笔记本电脑及AI芯片等产品。台积电计划继续挖掘荷兰供应商阿斯麦现有极紫外光刻机(EUV)的潜力,而非转向更新一代的高数值孔径极紫外光刻机(High-NA EUV)。后者每台售价高达4亿美元,约为此前机型成本的两倍。台积电首席运营官兼高级副总经理Kevin Zhang表示:“我认为,我们的研发部门在利用现有EUV技术方面表现非常出色,同时设定了积极的技术微缩路线图。这绝对是我们的一大优势。”
全部
来源
来源
内容由AI生成
0
0
0评论
当前文章无评论,是时候发表评论了
提示信息
取消
确认
评论举报
最新文章
热门文章
-
扫地机器人选购避坑指南0 0
-
性能与能效齐大涨,第六代骁龙8超级至尊版的重点根本不在跑分472 1125 -
绝了,WorkBuddy 积分可以无限白嫖了100 37 -
京东圈子活动汇总:11.2(不定时更新)65 51
已收藏
去我的收藏夹