俄罗斯350纳米光刻机获政府优先采购，聚焦工业芯片自主供应_CPU

1. 日本光刻机巨头，崩了！

2. 都2026年了，为什么ASML还在研究“上一代”DUV？【硅谷101】

3. 前所未见！客户提议出钱帮海力士“买光刻机，建生产线”

4. “从2018年至2024年，ASML的EUV光刻机拥有100%的市场占有率。在100%市场占有率的情况下，ASML每年卖出的EUV数量有限。2018年至2019年，总共卖出了44台、2020年卖了32台、2021年卖了42台、2022年卖了50多台、2023年卖了53台、2024年卖了44台，全球市场每年加在一起的EUV数量也没有超过60台。”大王点评：他这个观点跟我一直以来的观点一致，中国其实本来是没有意愿进入光刻机产业的，（否则西安理工大学早就是985而不是双非了），光刻机的市场太小了，当初阿斯麦也是靠intel与台积电三星这些大客户救济才挺过来的。北约这是逼着中国去搞光刻机，说句实话就是，中国的先进光刻机成功之日，就是阿斯麦倒闭的计数开始之时，市场太小了，容不下那么多企业，中国企业的人才与规模优势太显著，作为光刻机产业链上的关键企业，卡尔蔡司也要提前考虑自己的命运了。。其实中国的产业政策，长期以来是按照林毅夫教授提倡的“比较优势战略”来演进的，确实靠这个战略实现了很高效的发展，如今被逼着按照赶超战略与竞争优势战略去搞一些零和博弈或者单赢博弈，总使我想起来二战史上一句名言，这个送给特朗普等人，“玩弄慕尼黑阴谋的张伯伦，最终还是搬起石头砸了自己的脚”……

5. 日本光刻胶垄断该怎么破?

6. 国产光刻机大消息？海外“极限施压”！

7. 光刻机只是其中一个必要条件，不是充分条件，要充分条件还得一个接一个的投入，从应用材料到科磊到泛林到东京电子到sumco到信越。半导体供应链上的很多企业是小头在半导体行业里的。台积电十年营收也就那样，半导体就是德州仪器那句话，硬件是舞台，软件才是表演者。//@ZJCS23:偏激了啊，有光刻机才有tsmc和后面mag7带领的硬件软件公司，梨叔算一下他们的市值吧//@有个梨GPT:回复@吸猫Detxer狂魔:一个城市而已。而且光刻机只占台积电成本的15%左右。//@吸猫Detxer狂魔:咦，光刻机堪比房地产，那岂不是更加说明大陆需要有光刻机。//@有个梨GPT:回复@蹲坑儿坦克手:我给你个数字吧。2025年，当红炸子鸡台积电营收相比2024年大涨30%，达到1200亿美元。2025年上海房地产开发总投资比前一年下降3%，仅有6000亿人民币。//@蹲坑儿坦克手:有光刻机的时候说光刻机不重要，这没问题，但是没有光刻机的时候这么说，那就是吃不到葡萄的狐狸

8. 搞安卓开发10年了，脑子呢？什么时候，光刻机是靠一个人，一个公司能搞定的？我话放这，别说一个雷军+一个小米搞不定，就是再加一个任正非+华为都搞不定光刻机需要国家队中的国家队（譬如顶尖院校，高密级的某些单位），加半导体产业链的尖子生们，加部分研发能力出众且有迫切解决芯片制造需求的顶尖民企（比如**，**）形成研学产的合力，外加地缘博弈，加天时地利，加………张口一个公司，一个企业家能搞定光刻机的，简直Naive！

9. #中国芯片攻关取得新突破# 这应该是最重要的场合、最高级别的领导，第一次正式回答这个问题。字少事大不仅是“突破”，还是“新”突破。中国造芯片这条路面临的需要进步的地方很多，设计软件、光刻机、3nm 5nm等更高制程等等，我们从很多小到消息听说过光刻机的进步。不知道这次阴和俊部长提到的突破具体指的是哪一个，大概率应该是芯片的制造设备——光刻机。开源大模型指的是deepseek，如果按照中文语境来理解，芯片攻关上的进步应该也非常大。只不过不能说的太细。

10. 北美技术论坛上，台积电又发布了A13、A12两代工艺，都是在2029年问世，属于A14节点的增强版。更重要的是，台积电这次还正式对下一代EUV光刻机的愿景做了回应，CEO魏哲家表示不会购买High NA EUV光刻机。这一句话让唯一能生产EUV光刻机的ASML公司股价暴跌5.5个点，该公司市值超过4600亿美元，一年来股价翻倍，今年以来也涨了30%多。台积电不买的直接原因是太贵，High NA EUV光刻机的售价达到了3.5亿欧元，差不多就是4亿美元，比当前的EUV光刻机价格贵了一倍左右。CEO张忠谋的评价是High NA EUV光刻机非常非常贵（very, very expensive）。

11. 24年的时候说量产测试，到今年终于算做出来了。由泽列诺格勒纳米技术中心自主研发的新型光刻系统已正式纳入国家工业设备名录，此次入列的光刻系统是一款对准和投影曝光装置，其核心指标为 0.35微米分辨率。该设备采用365纳米波长的i线紫外光源，可处理直径达200毫米的标准晶圆，对准精度控制在90纳米左右。

12. 国产光刻机什么时候能够达到荷兰asml的水平？

13. 【台积电亮出新一代芯片技术拟绕开ASML天价设备】据媒体报道，台积电周三公布了其最新一代芯片制造技术，并透露，即便不使用阿斯麦昂贵的新一代光刻设备，也能制造出更小、更快的芯片。此次公布了两项技术改进：一项名为“A13”，计划于2029年投入量产，有望应用于人工智能芯片。另一项名为“N2U”，是一种更具成本效益的方案，适用于手机、笔记本电脑及AI芯片等产品。台积电计划继续挖掘荷兰供应商阿斯麦现有极紫外光刻机（EUV）的潜力，而非转向更新一代的高数值孔径极紫外光刻机（High-NA EUV）。后者每台售价高达4亿美元，约为此前机型成本的两倍。台积电首席运营官兼高级副总经理Kevin Zhang表示：“我认为，我们的研发部门在利用现有EUV技术方面表现非常出色，同时设定了积极的技术微缩路线图。这绝对是我们的一大优势。”

14. 华尔街点评阿斯麦财报：订单量炸裂+指引超预期，公司正处新一轮技术周期的起点！

15. 如何看待《路透社》报道：中国科学家在深圳成功打造出极紫外光(EUV)光刻机的原型机？

16. 今天下午的大新闻是：国产光刻机中标，上海微电子（SMEE）的SSC800/10型步进扫描式光刻机斩获订单，单价1.1亿元。🔻这次中标的光刻机核心参数没有披露。不过有研究分析说，SSC800型光刻机可以通过多重曝光生产28纳米芯片。🔻ASML的同类型光刻机虽然说已经非常成熟了，但是售价很高。国产光刻机单价1亿人民币，ASML的同类型单价1亿美元。🔻SSC800是干式DUV，还不是浸没式的。如果SMEE能生产浸没式的，那么就能用国产光刻机做到7nm的芯片了。期待这一天快点到来。

17. 国产高端光刻机什么时候才能造出来？！?

18. 有没有法绕过光刻机，弯道超车？

19. 日本百年光学巨头尼康发布了极其惨淡的2025财年业绩预告，预计将出现高达850亿日元的巨额亏损，创下公司成立以来的历史最差纪录。数据显示，尼康光刻机业务已陷入绝境，过去半年仅出货9台设备，且全部为技术陈旧的成熟制程老款，毫无高端竞争力。而同期荷兰ASML狂销160台，其中高端EUV光刻机占20余台，技术代差极其显著。市场份额方面，尼康曾在2001年占据全球光刻机市场约40%份额，如今按金额计算已跌至个位数，沦为全球第三，被ASML与佳能远远甩开。深层原因在于技术路线的连环失误，尼康早年错失浸没式光刻技术先机，又在EUV研发中坚持"全自研"策略，被排除在ASML主导的EUV联盟之外，核心光源技术遭切断。超千亿日元的EUV投入最终仅换来无法商用的原型机，商业化开发被迫终止，彻底错失技术迭代窗口。

20. ASML光刻机已使用300多个认证3D打印零件，半导体行业应用的关键分享

21. 国产光刻机什么时候能够达到荷兰asml的水平？

22. ASML CEO说，目前给中国出口的光刻机，已经比公司最新产品落后了8代，技术水平相当于2013，2014年的产品。这个技术落差太远了。技术落差太远就怕客户直接脱钩了就麻烦了，现在看确实有这个趋势。他的建议是落后一两代就行了，保持技术依赖，不脱钩，利益最大化。

23. #中国新型芯片绕开光刻机限制# 终于不用被光刻机卡脖子了！北大团队另辟蹊径，研发的新型芯片用阻变存储器技术，直接通过物理定律运算，绕开光刻环节。28纳米工艺就能量产，精度还达到24位，能适配各种前沿场景，半导体产业这下有新出路了～#芯片##AI芯片#

24. 路透社称中国造出 EUV 原型机，对全球半导体供应链将产生哪些影响？

25. 台积电 1.4nm 工艺明年试产，将如何影响全球芯片产业格局？

26. 俄罗斯

27. 俄罗斯350nm光刻机正式列装，成熟制程为何成了芯片自主化的关键一步？

28. 俄罗斯光刻机路线图曝光，2036年冲刺10nm以下

29. 俄罗斯

30. 俄罗斯放狠话

31. 为何俄罗斯不担心芯片、光刻机断供？除了中国，其他国家都不担心

32. 如何看待光刻机技术的未来发展趋势

33. 从DUV到EUV，中国光刻机离顶尖水平还有多远？

34. EUV光刻机的13.5nm光源是如何实现的，中国光刻机的追赶现状

35. 无需EUV 国产设备解决3nm工艺瓶颈难题

36. 俄罗斯自研光刻机，正式推出！350纳米落后世界30年，但足够

37. 国产光刻机硬突破

38. ASML 垄断 55.5% 市场！2025 年光刻设备行业格局生变

39. 封锁再升级造EUV难度陡增光刻工厂重构全球格局

40. 日本媒体

41. 2025年中国直写光刻设备行业相关政策、市场规模及竞争格局分析

42. 全球光刻机格局剧变，日本巨头亏损850亿，原因曝光与中国有关？

43. “AI+专利”解码2026年光刻机产业链创新发展态势

44. 《2026年中国光刻机行业专题调研与深度分析报告》摘要

45. 新需求助推全球光刻机市场规模快速增长，EUV成为全球光刻机重要发展方向，全球光刻机市场格局由三巨头长 - 哔哩哔哩

46. 俄罗斯没光刻机，芯片还用得上吗？答案有点反直觉

47. 光刻机,俄罗斯人竟然给搞定了?能够生产350纳米工艺的芯片

48. 俄自研EUV光刻机,打破ASML垄断,走出了一条新路

49. 俄罗斯称掌握EUV光刻机核心技术,将先于中国制造成功

50. 极紫外光刻技术演进（上篇）

51. 一天吃透一条产业链：光刻机

52. 阿贝-瑞利影响-------光学光刻和极紫外光刻安迪•爱德曼著

53. 半导体前道工艺全流程问答专栏-第二篇【光刻工艺 / Lithography】核心问答 | 半导体生产工序必备知识点

54. 比原子弹还难造10倍，中国为何非要攻下EUV光刻机这座大山不可？

55. 不是造不出光刻机：中国光学曾站在世界第一梯队，仅落后 5 年

56. EUV和DUV光刻机的科普分析

57. 造一台成本4亿美元！新一代EUV光刻机量产，采用0.55孔径光学系统

58. 一天三炸：EUV原型机、28nm量产、上海微电子首秀——中国光刻机的转折日

59. 突破封锁！俄罗斯自研350纳米光刻机正式入列

60. 光学微光刻技术的极限在哪里？

61. 半导体制造技术导论6.1--光刻分辨率(增强技术)和景深DOF

62. 光刻机的镜头是如何加工的？

63. ASML成为最强「卡脖子」环节，决定AI芯片产能天花板

64. 美国死卡 DUV 光刻机，浙大直接甩出王炸！一文看懂国产全线突围

65. 西方封锁，中国光刻机技术突围，没有EUV也能造7nm，揭秘中国芯片

66. 俄罗斯首台光刻机惊艳问世！

67. 俄65纳米芯片设备传捷报：全球前五技术储备仍被卡脖子

68. 【北向】俄罗斯自研光刻机，正式推出

69. 全球半导体设备产业密集突破：ASML High-NA EUV 量产与中国 7nm 进展

70. EUV光刻机大突破，技术全解密

71. 俄自研光刻机正式入册，半导体突围战打响第一枪

72. 俄罗斯自研光刻机，重大突破！

73. 俄罗斯光刻机破冰！已搞定自研350nm光刻机

74. 光刻设备领域：透视半导体皇冠上的技术博弈与产业变局

75. 俄罗斯自研光刻机，正式推出

76. 阿斯麦新一代EUV光刻机据悉已具备量产条件

77. 半导体光刻机行业研究

78. 外媒：中国EUV光刻机已在“实验性”生产，2028年实现商业化

79. 半导体③：EUV光刻机的追赶之路

80. 俄罗斯自研光刻机传出新进展

81. 现货黄金平台整理：阿斯麦新一代光刻机进入量产阶段：芯片制造再提速

82. 总结ASML的DUV光刻机的型号 - 哔哩哔哩

83. 光刻机介绍

84. 国产EUV光刻机何时能进行商用？

85. 都2026年了，ASML还在死磕DUV？3nm芯片90% 工序离不开它

86. ASML大势已去？国产28nm浸润式DUV光刻机，今年或量产

87. 一图看清光刻机产业链

88. 尼康光刻机，卷土重来

89. 我国半导体光刻机技术现状与国际差距分析

90. 从照明均匀性优化到光谱纯度提升，一场围绕193nm深紫外光刻的协同创新实践

91. 光刻技术的未来发展路线图

92. 光刻国产替代的关键力量：这些企业正在撕开海外垄断的口子

93. 高NA EUV光刻机2027-28量产：英特尔、三星等重金布局，台积电观望

俄罗斯350纳米光刻机获政府优先采购，聚焦工业芯片自主供应

精选参考来源