10月12日至16日，第26届中国国际工业博览会在国家会展中心（上海）举行。在创新科技馆里，上海初创公司朗道燧岩首次公开展示了一台国产极紫外（EUV）光源系统样机。 现场工作人员介绍，这套系统国产化率达到90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。 这次首秀真正回答的问题是：EUV光源这条最难的技术路线，国产团队已经能把它做出来、点亮并跑起来；但它验证的是可行性，而不是商用性能。集微网新浪微博
展出的FlintNano LPP-OXXO是朗道燧岩的低功率EUV光源系统，官网参数显示：驱动激光功率1000W，激光频率1至20kHz，转换效率大于2%，EUV输出大于15瓦，持续工作时间超过100小时。 而公司产品线的分工也很清楚：高功率的FlintMicro-LPP系列还停在原理论证，这次亮出的是已经走到产品化阶段的低功率版本。知乎集微网
15瓦对数百瓦：差的不只是功率
要理解15瓦的含金量，先看这个参数是怎么来的：EUV光刻所用的13.5纳米极紫外光无法用普通激光器直接产生，必须用高功率激光不断轰击每秒数万滴下落的锡液滴，把锡等离子体激发到发光状态。 这套系统里，驱动激光、锡液滴发生器、收集镜、真空与等离子体控制必须长时间协同工作，任何一个环节掉链子，输出就会失稳。按现场工作人员给出的口径，样机距离量产仍需3至5年，当前主要挑战是提升输出功率和长期运行稳定性，而商用EUV光刻系统通常要求光源功率达到数百瓦级别。 换算下来，15瓦与数百瓦之间是超过一个数量级的差距，这一步验证的是技术路线可行，离替代国际成熟光源还差得远——而且这些参数均出自厂商官网自报，尚未经第三方产线验证。知乎集微网新浪微博
两年走到展台：资本先一步到位
带来这台样机的，是一家成立刚满两年、从高校实验室走出来的公司。 创始人王豪是清华大学电机系博士，团队的技术底座来自清华的气体放电等离子体实验室，聚焦的正是LPP-EUV光刻光源这条主流路线。知乎集微网
资本节奏比样机节奏更值得留意：今年7月，朗道燧岩完成A轮融资，投资方包括沃衍资本和中芯国际旗下投资平台中芯聚源。 更早之前，张江高科旗下燧玥创投已投下天使轮，公司也入驻了上海集成电路设计产业园。 中芯国际是大陆最大的晶圆代工厂，也是EUV光源最直接的潜在需求方，产业资本入场，意味着国产光源研发与晶圆厂的潜在需求之间，第一次有了正式的产业接口。对一家同时还在经营大功率CO₂激光器和等离子体仿真软件业务的初创公司来说，15瓦级别的光源也未必只能等光刻机——检测、量测环节同样需要EUV光源，这可能是更近的商业落点。知乎集微网知乎
光源点亮之后：真正的对手是时间
EUV光源之所以被反复强调，是因为它是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断和禁运限制。 但样机亮灯，离一台能进厂的EUV光刻机还隔着反射镜、掩模、整机集成等多道关口，光源只是其中被撕开的第一道口。参照对象的时间账同样冷酷：ASML的EUV光源从实验室原理验证到量产交付用了二十年以上，中国团队要压缩进程，又要在供应链自主可控的约束下完成同样的工程爬坡。 接下来值得盯的有三个信号：高功率FlintMicro系列的功率爬坡能否公开兑现，连续运行时间能否从百小时走向工业级，以及中芯聚源这类产业资本能否把潜在需求转化为真实的联合验证。集微网知乎
