最近你大概刷到过“蔡司镜片2.5折”。但蔡司最贵的那块“镜片”，从来不进眼镜店：它装在ASML的EUV光刻机里，一套EUV光学系统只卖给ASML。今年9月，蔡司半导体负责人说中国先进芯片设备“落后约15年”。10月，又有视频说国产EUV反射镜“只差蔡司5%”。两个数字摆在一起，哪一个更接近真相？先别站队，算笔账。知乎知乎观察者网
EUV的光，波长13.5纳米。这个尺度下，空气都吸光，透镜更别想，整条光路只能抽真空、全用反射镜。能反射EUV的还不是普通镀铝镜：要把钼和硅交替镀上40到50个周期，每层只有几纳米，靠布拉格干涉把微弱反射叠起来，反射率才勉强到70%左右。70%听起来挺高，但它是“每面”的70%。知乎
High-NA的EUV光路要串联约10面反射镜，反射率是按乘方衰减的：0.7的10次方，只剩2.8%。这就像100块钱过10道收费站，每道抽走30块，最后只剩2块8。哔哩哔哩知乎
如果国产镜面每面做到65%，0.65的10次方只剩1.4%。每面只差5个百分点，落到晶圆上就是一半的光子——这不是“差一点”，是产能直接腰斩。所以“只差5%”这句话，真正的重点不在5%，在“10次方”。哔哩哔哩
那为什么非要用10面？因为镜子一面都不能白加。0.33 NA的NXE系列用6面，通光量只剩12%；加到8面剩5.8%。每加一面镜子，像差校正多一个自由度，光子就再乘一次0.7。知乎
High-NA要压住更大的像差，只能上10面，还得用X方向4倍、Y方向8倍缩小的变形物镜，整套四万多个零件、十二吨重。镜子的数量，本质是“像质”和“产率”之间的经济账。知乎
更难的是把镜子造出来。单面面形误差要压到0.1纳米以内，装配后整套系统的波像差不能超过1纳米RMS，畸变控制在1纳米量级。EUV物镜里没有一面球面镜，每一面都是离轴非球面，其中几面本质上已经是自由曲面。知乎
镀膜本身有应力，几十层镀上去会把镜面拉弯，所以得先“反着抛”，镀完再测、再修；一面High-NA镜子前后要将近一年。设计收敛出来的往往不是光学最优解，而是最抗热、最抗振、最能量产的那个解。知乎
这也是蔡司真正的护城河。ASML早在十年前就花10亿欧元买下蔡司半导体25%的股权，蔡司的EUV光学不对外卖，只供ASML。知乎
全球能稳定量产EUV反射镜的，目前只有蔡司一家。你可以把这理解成：不是中国造不出一块实验室镜子，而是从“样品”到“产线”之间，隔着设计、镀膜、检测、装调、良率一整套闭环。知乎华夏之光永存
蔡司高管说15年，是判断，不是判决；但“只差5%”也绝不是好消息——在这行，5%的反射率，经过10次方，就是一条产线的生死。所以，双11配蔡司，你买的是它消费光学的那一面；而它真正让全世界离不开的，是另一面：那面不零售、不打折、也不单卖的镜子。
