1台30亿天价！ASML最新光刻机滞销，全球仅卖5台，外媒：时代变了

ASML推出的高数值孔径极紫外光光刻机，即High-NA EUV，单台售价高达3.5亿至4亿欧元，折合人民币约28亿到32亿元，被行业普遍称为“30亿天价机”。原本外界预期它会一经推出就引发抢购热潮，然而截至2025年11月，全球实际发货数量仍然寥寥可数。早在几年前就有报道称，2024年仅有少数几台交付，其中大部分被英特尔包揽；进入2025年后，三星、SK海力士和台积电等厂商也陆续收到几台，但总量并未出现爆发式增长。不少外媒评论认为，这款设备似乎面临滞销窘境，时代真的变了——以往ASML每推出新型号，台积电等大厂都会争相预订，而这次客户却纷纷捂紧钱包，持观望态度。

High-NA EUV之所以备受关注，在于其技术上的重大突破。它将数值孔径从0.33提升至0.55，光学系统被彻底重新设计，单次曝光即可实现8纳米分辨率，相比上一代Low-NA EUV，晶体管密度提高了约2.9倍，从而可以在更小的芯片面积内容纳更多晶体管，有助于提升芯片性能并优化功耗。英特尔在2023年底率先拿到首台设备，2024年又追加多台，到2025年已在俄勒冈州的工厂投入生产，并称其可靠性比旧款EUV提高了一倍，季度晶圆产量可达数万片。SK海力士于2025年9月在韩国M16工厂安装了首台商用High-NA设备，宣称其在精度和密度方面表现卓越。三星在平泽园区也部署了一台，而台积电则在2024年底收到一台主要用于研发测试。

然而，高昂的成本成为阻碍其大规模普及的关键因素。每台设备起价3.8亿美元，是普通EUV价格的两倍以上，运输时需要拆分成数百个集装箱，安装调试周期长达半年，同时耗电量巨大，后期维护成本也不菲。芯片大厂经过测算发现，现有的Low-NA EUV设备结合多重曝光、剂量优化等技术，已经能够将制程推进至2纳米甚至1.6纳米水平，性能与功耗表现足以满足当前需求，因此并不急于更换新设备。台积电在2025年欧洲技术论坛上明确表示，其A16节点（即1.6纳米级别）无需依赖High-NA即可实现，通过对现有设备进行优化，性能可提升10%，功耗降低15%至20%，整体性价比更具优势。台积电高层坦言，除非High-NA能带来明确的经济回报，否则不会轻易投入巨资。

英特尔成为当前的主要例外。由于亟需在制程上追赶竞争对手，其18A和14A节点全面押注High-NA技术，2025年已有多台设备投入运行，并计划在2026至2027年大规模应用。但其他厂商的态度则相对保守：三星引入的设备主要用于内存芯片试产，SK海力士仅安装一台以评估效果，台积电也只有一台研发用机，尚未下达大规模订单。ASML方面透露，2025年High-NA的实际出货量预计仅为个位数到十余台，主要应用于研发环节，真正进入量产阶段可能要等到2026至2027年。尽管已有10至20台的订单储备，但客户普遍不急于提货，节奏明显放缓。

这一现状也反映在ASML的财报表现中。2025年第三季度，公司实现净销售额75亿欧元，毛利率达51.6%，EUV订单金额为36亿欧元，整体数据看似稳健，但High-NA的贡献仍然有限。ASML对全年业绩的预期维持在300亿至350亿欧元，EUV业务预计增长30%，然而非AI领域需求疲软，加之中国区业务有所降温，导致其股价不时出现波动。有分析指出，这表明芯片制造商变得更加理性，不再盲目追求最尖端设备，而是仔细权衡投资回报周期。过去，凭借在EUV领域的垄断地位，ASML几乎能够“躺着收单”；如今，随着大厂不断优化现有工艺、延长老旧设备使用寿命，并通过减少掩模次数维持竞争力，即便是ASML这样的行业巨头也不得不面对现实。

总体来看，时代的变化并非因为ASML技术实力减弱，而是客户决策更加理性务实。尽管人工智能的快速发展推动了对先进制程的需求，但厂商们发现Low-NA设备仍可继续使用多年，而高价High-NA设备的短期回报并不显著，因此选择暂缓投入。英特尔全力冲刺，若押注成功则有望实现技术反超，一旦失误则将承受巨大财务压力；台积电则以稳健策略主导市场，严格控制成本，持续巩固其产业地位。对ASML而言，High-NA的订单储备正在逐步增加，预计2026至2030年将迎来爆发，但在2025年这一过渡阶段，30亿一台的顶级设备未能实现大规模销售，难免让人感叹：生意确实越来越难做了。