英特尔发布全球最薄硅基氮化镓射频芯片,瞄准6G商用

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06-06 10:23

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14. 中国西电团队攻克芯片散热世界难题 氮化镓射频芯片性能提升30%到40% 在芯片面积不变的情况下,装备探测距离可以显著增加; 据媒体报道,西安电子科技大学实现了历史性跨越,使#氮化镓 #射频芯片 性能提升30%到40% 他们通过将材料间岛状连接转化为原子级平整的薄膜,使芯片的散热效率与综合性能获得了飞跃性提升。 工艺的突破直接转化为器件性能的惊人提升,基于这项创新的氮化铝薄膜技术,研究团队制备出的氮化镓微波功率器件,在X波段和Ka波段分别实现了42W/mm和20W/mm的输出功率密度。 这一数据将国际同类器件的性能纪录提升了30%到40%,在芯片面积不变的情况下,装备探测距离可以显著增加。#半导体 #芯片 #科技 竟业电子IC芯片供应商 www.jingyeic.com

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28. 英特尔重大突破:全球最薄GaN芯片问世! 4月9日,英特尔晶圆代工服务传来喜讯,成功开发出全球最薄的氮化镓(GaN)芯片,其硅衬底厚度仅19微米,约为人类头发直径的五分之一,堪称芯片领域的“瘦身奇迹”。 该芯片运用英特尔专有的隐形切割和减薄工艺,在300毫米氮化镓硅基晶圆上制造。此工艺在保证芯片结构完整和性能稳定的前提下,实现了超薄外形。 不仅如此,团队首次实现氮化镓功率晶体管与硅基数字逻辑电路单片集成,将复杂计算功能嵌入功率芯片,无需额外辅助芯片,大幅简化系统架构,降低能量损耗。 性能测试成绩亮眼,GaN晶体管能承受78V电压,射频截止频率超300GHz,满足高频通信需求;集成数字逻辑库运行可靠,反相器开关速度达33皮秒,且晶圆上性能一致,量产潜力巨大。此外,该技术通过四项行业标准可靠性测试,具备商业部署条件。英特尔此举,有望降低生产成本,加速氮化镓芯片大规模应用。#英特尔 #芯片封装 #半导体设备 #真空回流炉

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