俄罗斯公布EUV光刻机路线图，2036年冲刺10nm以下
05-20 16:07
精选参考来源
Eidosper 2026-03-08
来自知乎
蒸汽电荷 2026-03-05
来自新浪微博来源
精选参考来源
1. 美国先突破稀土全自主供应，还是中国先突破EUV光刻机全自主制造？
知乎 2026-03-08 00:00:00
2. #中国芯片攻关取得新突破# 这应该是最重要的场合、最高级别的领导，第一次正式回答这个问题。字少事大不仅是“突破”，还是“新”突破。中国造芯片这条路面临的需要进步的地方很多，设计软件、光刻机、3nm 5nm等更高制程等等，我们从很多小到消息听说过光刻机的进步。不知道这次阴和俊部长提到的突破具体指的是哪一个，大概率应该是芯片的制造设备——光刻机。开源大模型指的是deepseek，如果按照中文语境来理解，芯片攻关上的进步应该也非常大。只不过不能说的太细。
新浪微博 2026-03-05 00:00:00
3. 俄罗斯光刻机路线图曝光，2036年冲刺10nm以下
今日头条 2026-04-13 00:00:00
4. 俄罗斯：我们拥有EUV光刻机核心技术，会比中国更快造出光刻机！
今日头条 2026-03-21 00:00:00
5. 俄罗斯：我们拥有EUV光刻机关键技术，会比中国更早造出光刻机
微信公众号 2026-03-20 00:00:00
6. 俄罗斯放狠话：比中国更快造出光刻机！却还差关键一样东西！
今日头条 2026-03-23 00:00:00
7. 俄罗斯推出自研光刻机：背后经历了什么
哔哩哔哩 2026-04-16 00:00:00
8. 俄产光刻机“曙光”背后：芯片差距与各国的不同算盘
今日头条 2026-05-05 00:00:00
9. 俄65纳米芯片设备传捷报：全球前五技术储备仍被卡脖子
微信公众号 2025-12-11 00:00:00
10. 俄罗斯没光刻机，芯片还用得上吗？答案有点反直觉
今日头条 2026-03-04 00:00:00
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