2030年纯国产7nm芯片能否真正落地？_CPU

1. 国产光刻机大消息？海外“极限施压”！

2. 韩国媒体：中国半导体设备自给率超过35%！韩国商业邮报报道：尽管美国实施了严格的出口管制，中国半导体设备的国产化率已超过35% ，标志着中国迈向技术自主化的一个转折点。这一成就提前实现了中国政府最初设定的30%的目标，体现了“制裁悖论” ：美国的制裁实际上促进了中国半导体生态系统的自主发展。从2020年开始的7%，五年提升五倍到35%。按媒体曝光，去年底已经达到50%。也就是说2026年应该在50%以上，这绝对是好消息。比预期要快。如果2027我们解决光刻机的话，大概国产率会达到90%以上，卡脖子成为历史了。

3. #中国新型芯片绕开光刻机限制# 终于不用被光刻机卡脖子了！北大团队另辟蹊径，研发的新型芯片用阻变存储器技术，直接通过物理定律运算，绕开光刻环节。28纳米工艺就能量产，精度还达到24位，能适配各种前沿场景，半导体产业这下有新出路了～#芯片##AI芯片#

4. 先进芯片占比快速提升，连军工都开始采用，国产芯片需加速追赶

5. 国产芯片高端化取得突破，与进口芯片差距缩小，竞争力大幅增强

6. 最火芯片研究机构! SemiAnalysis创始人：算力瓶颈从CoWoS转移到EUV，存储吃掉30%资本开支

7. 赛微电子11月18日晚间公告：公司拟以不超过6000万元交易总价款购买芯东来部分股权。本次交易芯东来估值预计不超过5.20亿元，交易初步方案为公司拟购买芯东来原股东海南依迈、智能传感产业基金、浔元投资、海创智能装备分别持有的芯东来4.11%、3.00%、2.80%、1.09%股权。据介绍，芯东来是一家具有成熟工艺制程光刻机自研和量产能力的企业，专注于光刻机整机领域，业务分为光刻机再造业务和自研光刻机业务。

8. 台媒，半导体设备:EUV的研发很快会有突破，但是商用3-5年！我感觉他们低估了大陆进步。最近中国存储芯片建设工厂，高歌猛进，设备被限制问题通过国产化后，已经好很多。日本媒体说，没想到中国芯片国产化进度这么快。前HR本人的微博视频

9. 国产光刻机什么时候能够达到荷兰asml的水平？

10. #中国新型芯片绕开光刻机限制# 北京大学孙仲教授团队成功研制基于阻变存储器的高精度、可扩展模拟矩阵计算芯片，精度达24位定点，提升5个数量级。该芯片可支撑6G、具身智能及AI大模型训练等场景，能在28纳米及以上成熟工艺量产，绕开光刻机限制。不得不佩服中国人的智慧，一旦绕开光刻机，那之前想通过芯片卡脖子的老美算是彻底失算了。

11. 【上海微电子中标1.1亿元光刻机项目】据中国政府采购网公示，上海微电子装备（集团）股份有限公司中标zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目，设备数量为一台，成交金额1.1亿元。公告显示，中标供应商名称为上海微电子装备（集团）股份有限公司，供应商地址为上海市张江高科技园区张东路1525号。中标货物名称为步进扫描式光刻机，货物型号为SSC800/10。张江高科直线拉升，截至发稿，涨超7.8%，最新股价报43.7元/股。

12. 之前美国不让用芯片之母，现在是中国不用了，国产EDA加速替代

13. 被卡脖子的中国，芯片怎么越卖越猛了？ #财经知识#经济学视角看世界#社会#魏建军真的下赛道了

14. 日本光刻机巨头，崩了！

15. 上海微电子中标1.09亿元步进扫描式光刻机政府采购项目！这次中标的是SSC800/10，是基于ArF浸没式技术（与SSA800/10i为同一系列型号），单次曝光可支持28纳米制程节点，结合多重曝光技术可延伸至7纳米及以上制程。其核心精度达到国际主流水平，如投影物镜镜头组畸变率控制在2纳米以内，工件台定位精度达0.3纳米分辨率，国产化率超过70%，关键部件如光源系统、光学镜头和双工件台已实现自主可控。

16. 【中国芯片震撼突破：能效提升228倍，GPU神话或被终结？】北大团队在《Nature》子刊发表的模拟计算芯片成果，直接改写了算力游戏的底层规则！核心突破点：• 228倍能效比：1台新芯片=过去228台GPU服务器• 成本革命：数据中心电费从100元骤降至1元量级• 真场景验证：已在推荐系统实现商用级验证技术三大跨越：1️⃣ 24位高精度：解决模拟计算"算不准"痛点 2️⃣ 并行矩阵运算：速度提升12倍，能耗暴降 3️⃣ 28nm工艺量产：完全自主可控的技术路径行业冲击波：▸企业：AI开发不必再堆砌天价GPU ▸用户：推荐/图像处理响应更快更准 ▸国家：绕开7nm卡脖子困境的新赛道这场突破不是简单的"国产替代"，而是用物理定律重构了算力经济学。当算力成本断崖式下跌，你认为哪个行业会最先被颠覆？#科技突破 #中国芯片 #AI革命（注：基于北大孙仲团队研究成果整理）

17. 2026年全国半导体与未来产业“全景图”正式落子

18. 中国对EUV光刻机布局早于西方预期，光刻机的进展可能超乎预期

19. 真相大白！中芯国际二季度业绩，到底受不受光刻胶断供影响？最近全网都在传"中芯国际光刻胶断供，二季度要暴雷"，很多人吓得连夜清仓。今天我就用最真实的数据，给大家说清楚这件事的来龙去脉。首先明确结论：日本高端光刻胶确实已实质断供，但对中芯国际二季度业绩影响微乎其微。为什么这么说？第一，断供的只是14-28nm的ArF光刻胶，而这部分只占中芯国际总营收的15%左右。公司85%的营收来自90nm以上的成熟制程，G/I线光刻胶早已实现国产替代，供应完全稳定。第二，中芯国际早有准备。截至一季度末，公司ArF光刻胶库存仍能维持到6月底，足够支撑二季度全部生产计划。更关键的是，国产替代正在加速：鼎龙股份300吨ArF产线3月已投产，中芯国际28nm产线使用国产胶的良率已从78%提升至83%，成本还降低了18%。第三，二季度业绩最大的压力其实不是光刻胶，而是折旧高峰。2026年公司总折旧同比增加三成，这才是压制毛利率的核心因素。目前公司产能利用率仍维持在95%以上，在手订单排到2027年，二季度营收环比增长1%-3%是大概率事件。说到底，光刻胶断供是长期挑战，但不是短期危机。它只会倒逼国产替代加速，让中芯国际的护城河越来越深。你觉得国产光刻胶今年能实现28nm全面替代吗？评论区聊聊！

20. 如何看待《路透社》报道：中国科学家在深圳成功打造出极紫外光(EUV)光刻机的原型机？

21. 日本光刻胶垄断该怎么破?

22. 当卡脖子压力转化为硬核创新力，国产 AI 产业将彻底摆脱外部制约。中芯国际 7nm 工艺良率突破 85%，华为昇腾新一代 AI 芯片算力大涨 40%、能耗直降 30%，随着国产产能集中释放，下半年 AI 算力成本有望大幅下调 30%—40%。曾经的技术封锁，非但没有困住我们，反而逼出了一条完全自主的芯片创新之路。#一分钟精选视频扶持计划##专业视频创作季##AI创造营##科技先锋官# 种斌Marco的微博视频

23. 国产高端光刻机什么时候才能造出来？！?

24. 英伟达中国份额降至0%，A股国产芯片今日集体暴涨，寒武纪等创历史新高，对此你怎么看？

25. 南大光电，登顶全国第一！2026年，半导体继续狂奔！2026年2月6日，机构宣布全球半导体行业今年将迎来1万亿美元的营收规模、打破历史记录。这种高速增长态势早就有迹可循。2025年全球头部科技公司下场AI“正面硬刚”，谷歌、微软等巨头合计斥资数千亿美元建设AI数据中心，一举带动全年芯片销售额逼近8000亿美元大关。先进计算芯片也成为其中增长最快、规模最大的芯片种类，销售额同比增长39.9%，占比近40%。种种迹象表明，半导体领域未来竞争存在以下特点：AI算力推动、先进芯片占比提升、高端化进程加速。光刻机、光刻胶等高端产品是半导体“皇冠上的明珠”，技术严苛复杂、我国长期被国外厂商“卡脖子”，这些领域也就成了我国半导体公司的“兵家必争之地”。南大光电是光刻胶的佼佼者。光刻胶曝光光源波长越短、技术难度越高。ArF光刻胶波长只有193nm，可支撑14nm、7nm等关键节点，是除了EUV光刻胶以外技术难度最高的光刻胶。据统计，目前我国ArF光刻胶整体国产化率还不足1%。而南大光电，则是我国唯一能量产ArF光刻胶的企业，含金量十足。截止2024年年底，公司三款ArF光刻胶产品已通过下游客户认证并成功销售出货。不仅如此，公司目前还拥有年产50吨的ArF光刻胶产能。南大光电有强悍的硬实力，也一直把独立自研光刻胶作为公司重要路线。不过，前不久，公司做了个看似“无关”的事情。2026年1月5日，南大光电宣布增资7760万元，将子公司“乌兰察布南大”的持股比例提升至91.05%。乌兰察布南大不是做光刻胶的，是做电子特气的。南大光电拥有三大电子特气生产基地，分别位于安徽滁州、山东淄博和内蒙古乌兰察布，此次增资的子公司就是最后者。说到底，增加子公司持股比例目的无非有二：一是收归控制权；二是方便后续指挥子公司展开业务动作。增资之前南大光电占据乌兰察布南大的绝对控制权，原因大概率就是第二条。事实也确实如此。2025年10月28日，南大光电公告称，拟将原募投的“7200吨电子级三氟化氮项目”的未使用资金全部投入“年产2000吨高纯电子级三氟化氮扩产项目”，合计金额9217.5万元。从“电子级”升级为“高纯电子级”，两字之差足以反映公司要往“高端产品”上走，此次增资子公司也是为了项目顺利进行。那么，对于南大光电，我们最关心两个问题。第一，电子特气对公司业绩有什么重要影响？来看一下公司营收结构，实际上，电子特气产品一直是公司最大营收来源，2025年上半年占比60.95%。因此提升高端电子特气产能有望较大程度增厚公司业绩。芯片制造过程有蚀刻与清洗气体环节，电子特气是必不可少的“关键材料”。未来社会对AI算力的需求最终会转化为对电子特气的海量需求。电子特气的制造难度没有光刻胶高，但目前市场竞争依旧激烈。21世纪以来，行业内海外公司通过大量兼并收购形成垄断，美国空气集团、法国液化空气、德国林德和日本大阳日酸长期占据市场，我国电子特气国产进程也刻不容缓。南大光电看准了这一关键赛道，近几年一直加速发展：电子特气业务规模从2020年的4.29亿元提升到2024年的15.06亿元，几乎与中船特气“打了平手”，产品毛利率也在35%以上，位于行业较高区间。第二，南大光电电子特气业务具备何种竞争力？高端电子材料对电子特气的纯度、稳定性要求极高，一丝杂质就可能导致芯片报废。而南大光电的产品主要集中于磷烷、砷烷系列，开发难度和技术含金量最高。子公司乌兰察布南大所专研的三氟化氮的下游应用极广，占总市场规模约20%。电子特气分为氟类特气、氢类特气。近期市场上氟类特气竞争激烈、价格有所下降，导致公司该业务毛利率有所下滑。不过南大光电把氢类特气的竞争优势放大，弥补差距：2025年上半年，公司氢类特气中的ARC、三氟化硼等新产品抓住IC端需求机遇，收入同比增长超60%。从产能供应端也能看出公司产品竞争力强、不愁销路。2025年上半年，特气类产品产能利用率高达102.37%。此次公司将视线投向“高纯电子级电子特气”，力图打造品质更高的5.5N级产线，进一步提升市场竞争力。那南大光电投资电子特气，能否与光刻胶形成互补呢？实际上，公司的三大业务都位于晶圆制造环节，而且高度同源。在高端半导体领域，华特气体、彤程新材、上海新阳等公司在各自细分赛道做的不错，而南大光电是国内唯一能三大赛道全覆盖的企业。AI算力建设需求猛增，AI芯片对制程和制造材料的要求更加严格，南大光电扩产的5.5N级高纯三氟化氮和已经量产的ArF光刻胶，均是算力建设的必备耗材。目前公司光刻胶产品还未带来大规模业绩增量，营收占比很小，且光刻胶新品验证周期一般在6-24个月，时间较长。市场竞争不等人，在AI算力攻关之际，南大光电集中力量发展已有规模的电子特气业务，不失为稳妥的选择。业绩稳步提升，也给公司破局高端半导体领域带来稳稳的底气。2025年前三季度，南大光电营收和净利润均同比提升，而且净利润同比增速13.24%，显著高于6.83%的营收增速。总的来说，南大光电步步为营，核心业务具备先发优势。未来公司若能继续扩大电子特气业务优势，也有望慢慢沉淀实力，为进一步攻克光刻胶添砖加瓦。

26. #华为mate80# 即将发布的麒麟9030芯片，是国产半导体产业链全链路自主可控的重要里程碑，为行业注入了强劲信心。这款芯片不仅预计实现20%的性能提升，更核心的意义在于其背后国产制造工艺的突破一在缺乏EUV光刻机的背景下，通过工艺优化达成技术进阶，印证了国内从芯片设计、制造到内存、射频前端等“卡脖子”环节的替代成果。不仅回应了外部技术制裁，更向市场传递出明确信号:国产半导体已具备持续创新与稳定供给的能力，将进一步激发上下游企业的研发投入，加速整个产业链的成熟与完善#麒麟9030#

27. 为什么麒麟都能用7nm工艺龙芯却不行？

28. 台积电 1.4nm 工艺明年试产，将如何影响全球芯片产业格局？

29. “从2018年至2024年，ASML的EUV光刻机拥有100%的市场占有率。在100%市场占有率的情况下，ASML每年卖出的EUV数量有限。2018年至2019年，总共卖出了44台、2020年卖了32台、2021年卖了42台、2022年卖了50多台、2023年卖了53台、2024年卖了44台，全球市场每年加在一起的EUV数量也没有超过60台。”大王点评：他这个观点跟我一直以来的观点一致，中国其实本来是没有意愿进入光刻机产业的，（否则西安理工大学早就是985而不是双非了），光刻机的市场太小了，当初阿斯麦也是靠intel与台积电三星这些大客户救济才挺过来的。北约这是逼着中国去搞光刻机，说句实话就是，中国的先进光刻机成功之日，就是阿斯麦倒闭的计数开始之时，市场太小了，容不下那么多企业，中国企业的人才与规模优势太显著，作为光刻机产业链上的关键企业，卡尔蔡司也要提前考虑自己的命运了。。其实中国的产业政策，长期以来是按照林毅夫教授提倡的“比较优势战略”来演进的，确实靠这个战略实现了很高效的发展，如今被逼着按照赶超战略与竞争优势战略去搞一些零和博弈或者单赢博弈，总使我想起来二战史上一句名言，这个送给特朗普等人，“玩弄慕尼黑阴谋的张伯伦，最终还是搬起石头砸了自己的脚”……

30. 半导体制造行业，是先进工艺利润高于成熟工艺吗？

31. 美国拟自2027年起对中国半导体产业加征关税，中方坚决反对，加征关税对中国半导体行业有何影响？

32. 美国先突破稀土全自主供应，还是中国先突破EUV光刻机全自主制造？

33. 依托庞大的国内市场，国产芯片设备快速崛起，产业链日益完善

34. 今天下午的大新闻是：国产光刻机中标，上海微电子（SMEE）的SSC800/10型步进扫描式光刻机斩获订单，单价1.1亿元。🔻这次中标的光刻机核心参数没有披露。不过有研究分析说，SSC800型光刻机可以通过多重曝光生产28纳米芯片。🔻ASML的同类型光刻机虽然说已经非常成熟了，但是售价很高。国产光刻机单价1亿人民币，ASML的同类型单价1亿美元。🔻SSC800是干式DUV，还不是浸没式的。如果SMEE能生产浸没式的，那么就能用国产光刻机做到7nm的芯片了。期待这一天快点到来。

35. 一群小可爱吹华为芯片已经达到3nm工艺制程水平一群小可爱黑华为芯片实际上连7nm工艺制程不到说华为14nm工艺制程堆叠芯片应该是2022年有人造谣，最早是吹华为的技术牛实际上这项技术从来没有在手机领域运用过，华为当初也是为基站准备当年吹华为的沸腾体成为黑华为的文案，麒麟9030绝对不是14nm工艺制程堆叠目前消息来看，麒麟9030还是7nm工艺制程，晶体管密度媲美5nm工艺制程希望两拨人别继续吹了也别继续黑了，默默等国产半导体行业突破麒麟芯片每年都有比较大的进步，无论是吹的还是黑的都不影响进步

36. 光刻胶在半导体制造里那可是相当重要，说是“命门”材料也不为过。芯片制造的光刻环节，光刻胶能把设计好的电路图案精确转移到硅片上，直接影响芯片的性能和质量。之前我国光刻胶市场大多依赖进口，一旦供应出问题，半导体产业就会面临危机。不过近年来国产光刻胶厂商不断发力，像某些企业已经在部分光刻胶产品上取得技术突破，实现量产。实现光刻胶国产化，能让我们的半导体供应链更稳定，减少外部制约，也能降低成本。未来，国产光刻胶有望撑起半导体产业发展的一片天！

37. 竟然连瓶子都卡脖子，日本连光刻胶瓶子都不卖，中国迅速自研成功

38. 中国别高兴太早 ASML从制出EUV原型到真正商用化，足足熬了18年。他们太想当然了，总是低估中国。EUV光刻机一开始是要摸索，可是现在属于路子已经通了，只是把我们相关关键技术突破就成了，没有啥秘密。现在我们已经突破很多东西，这个也一定可以突破。前HR本人的微博视频

39. #中国科技进步路透社本不必焦虑# 路透社一篇关于中国成功研制极紫外（EUV）光刻机原型机的报道，被外媒冠以“曼哈顿计划”的标签。要知道这可是当年美国卡我们脖子的一个重要技术设备，目前全球也只有荷兰的阿斯麦能够制造，还是联合多国的顶尖技术和人才共同研发。中国一旦突破这个光刻机的壁垒，老美的技术封锁将彻底无效，中国科技也会迎来新一轮腾飞。虽然路路透社的报道没有官方依据，可个人还是相信我们国家的实力，西方国家的技术围堵正是倒逼我们技术进步的动力。

40. 日本百年光学巨头尼康发布了极其惨淡的2025财年业绩预告，预计将出现高达850亿日元的巨额亏损，创下公司成立以来的历史最差纪录。数据显示，尼康光刻机业务已陷入绝境，过去半年仅出货9台设备，且全部为技术陈旧的成熟制程老款，毫无高端竞争力。而同期荷兰ASML狂销160台，其中高端EUV光刻机占20余台，技术代差极其显著。市场份额方面，尼康曾在2001年占据全球光刻机市场约40%份额，如今按金额计算已跌至个位数，沦为全球第三，被ASML与佳能远远甩开。深层原因在于技术路线的连环失误，尼康早年错失浸没式光刻技术先机，又在EUV研发中坚持"全自研"策略，被排除在ASML主导的EUV联盟之外，核心光源技术遭切断。超千亿日元的EUV投入最终仅换来无法商用的原型机，商业化开发被迫终止，彻底错失技术迭代窗口。

41. 【#我国攻克半导体材料世界难题#】据科技日报，在芯片制造中，不同材料层间的“岛状”连接结构长期阻碍热量传递，成为器件性能提升的关键瓶颈。近日，西安电子科技大学郝跃院士、张进成教授团队通过创新技术，成功将粗糙的“岛状”界面转变为原子级平整的“薄膜”，使芯片散热效率和器件性能获得突破性提升。这项为半导体材料高质量集成提供“中国范式”的突破性成果，已发表在《自然·通讯》与《科学进展》上。（财联社）

42. 国产半导体设备真实进度

43. 【国产芯片追到哪里了】乌凌翔叶国光全景分析（202602)简版

44. 国产芯片卡在哪，真正关键是这3段链条

45. 研究谷歌TPU技术和DeepSeek V4报告后，我发现国产算力的真正命门根本不在设计【投资思考】【深度思考】

46. 一文读懂半导体全产业链

47. 芯片战略转折

48. 美国智库

49. 造一台光刻机，为什么那么难？

50. 别被制程数字忽悠！7nm不一定比14nm强，真相很残酷

51. 7nm 制程工艺如何实现？

52. 中科院学者

53. 光刻机国产替代

54. 我们离顶尖光刻机有多远？近20年，但中国走出了一条美国最怕的路

55. ASML急了

56. 中国迎来重大突破，ASML封锁即将失效，全球格局要变了！

57. 国产 SSA800 光刻机批量交付国产半导体设备产业化再获重要进展

58. 国产光刻机SSA800的量产，对中国半导体产业有什么重要意义

59. 中国半导体产业迎来历史性突破，上海微电子自主研发的SSA800系列28纳米浸没式光刻机已经正式交付中芯国际，并且进入了规模化量产阶段。这个消息一出，整个科技圈都沸腾了，很多人可能还不明白这意味着什么，让我用最通俗的话告诉你，这绝对是中国芯片产业翻身仗的关键一步。

60. 越收紧越增长

61. 从DUV到EUV，中国光刻机离顶尖水平还有多远？

62. 7nm以下，真正的难关不是光刻机

63. DUV+准EUV融合架构下2nm光刻国产工程可行性与国产化迭代路径研究

64. 目前中国光刻机自身的技术节点主要集中在成熟制程（28nm及以上）

65. 台积电前总裁

66. 超级人工智能设计光刻机能造7nm/5nm/3nm，不用EUV光源，结构更简单，成本降10倍，现在工程上就能落地

67. 美国《MATCH法案》落地

68. 西方封锁，中国光刻机技术突围，没有EUV也能造7nm，揭秘中国芯片

69. 中国如何突破EUV光刻机技术封锁

70. 封锁再升级造EUV难度陡增光刻工厂重构全球格局

71. 美国死守EUV封锁中国跳出传统物理路径，8nm架构重构全球芯片规则

72. 日媒

73. 韩媒

74. 荷兰技术专家

75. 如何避开卡脖子技术制作光刻机

76. 美国对中国“锁喉”光刻机，国产替代加速反杀，美方算盘落空

77. 中国芯片日均出口52亿,暴增近70%背后,能造7nm的或有两家了

78. 国产芯片突破!上海微电子7nm光刻机试产,3nm/5nm量产率50%

79. 国产光刻机再传新消息

80. 非要7nm以下吗!任正非谈美国封锁下中国芯片发展:项立刚等专家怒赞务实

81. 7纳米之“争”:技术概念尚待厘清—新闻—科学网

82. 国产芯片还有希望吗？

83. 美国1月13日的AI芯片管制新规……

84. 国产芯片再迎来什么新进展？

85. Intel陈立武:美国2nm领先但中国公司正榨取远超7nm性能中美芯片竞争加剧

86. 从浸没式到EUV与纳米压印：光刻技术的演进发展

87. 中芯国际 ——2026 国产AI芯片的基石

88. 上海微电子中标1.1亿光刻机，核心受益的7家公司

89. 7nm芯片量产了，没用EUV光刻机，梁孟松到底怎么干的？

90. 看看我们的7nm芯片是怎么制造出来的，还敢吹我国能造光刻机吗？

91. 荷兰技术顾问：只要封锁中国一项光源技术，他们所有光刻机计划将永远无法实现

92. 我花3天整理了23份研报，做成这份2025国产芯片入门地图

93. 光刻机卡脖子，国产小设备突围，未来算力或换赛道

94. 如何看待光刻机的技术难度

95. 国产28nm光刻机即将量产，中国芯片制造最难的关卡攻下来了？

96. 【半导体干货】121 台尖端设备如何造芯？一文读懂半导体制造工艺

97. 中芯国际7nm良率突破85%+，国产GPU迎来硬核支撑

98. 无EUV光刻机，中国7nm芯片如何硬扛突围

99. 7nm 突围！国产 AI 芯片算力追平英伟达

100. 国产28nm光刻机SSA800批量交付良率超90%？媒体辟谣：假消息！

101. 中科院博导：我们用技术去挖掘DUV光刻机的潜力，不断提升良品率，支撑华为持续推出搭载7nm芯片的产品

102. 220314 半导体集成电路制造关键设备鸟瞰图

103. 1.1亿光刻机订单背后，上海微电子如何突破技术封锁？

104. 突破封锁！2026光刻机国产替代迎来拐点，28nm DUV量产进入倒计时

105. 比光刻机还稀缺：半导体12大卡脖子材料

106. 国产28nm浸润式DUV光刻机突传好消息！ASML的好日子要到头了？

107. 复旦教授直言差距20年！国产光刻机却让ASML股价暴跌？真相令人振奋！

108. 光刻机：芯片战争“原子弹”！国产替代到底卡在哪一步？

109. 中国造不出光刻机？中科大副院长：美国造不出，中国永远都不可能

110. 华虹7nm被曝取得进展：国产先进制程出现第二个节点

111. 半导体国产替代：一场没有退路的突围战！揭秘中国芯片破局之路�

112. 732亿进口光刻机 ASML占九成国产替代路在何方

113. 国产芯片“卡脖子”清单：这6大领域，谁在带头突围？

114. 国产光刻机跻身前20 ASML预警营收下滑垄断将松动？

115. 卡住科技脖子的9种半导体材料，谁能率先突围吃尽千亿替代红利？

116. ASML大势已去？国产28nm浸润式DUV光刻机，今年或量产

117. 真相扎心：ASML的EUV能买到也没用，国产芯片的困境藏在全链条里

118. 炸裂！华虹7nm量产在即，国产芯片真的要迎来拐点了？

119. 石英，光刻机的“隐形天花板”？

120. 光刻机封锁后续：北大新芯片绕过EUV，西方封锁失效？

121. 【东北电子 · 点评】鼎龙股份：光刻胶产线建成投产，创新材料平台价值凸显

122. 韩媒唱衰：中国十年内搞不出EUV光刻机，但中国可能要造光刻工厂

123. 国产ArF光刻胶良率99.7%：量产突破靠哪些核心技术

124. 芯片制程为什么突然慢下来了？芯片微缩面临物理材料和经济的三重挑战，如量子隧穿效应、原子级制造误差和互联瓶颈。核心技术难点包括EUV光刻逼近极限、新材料难寻和成本失控。行业共识是不再盲目追求先进制程，而是关注系统集成和封装。未来突破可能在于Chipletego集成、三维堆叠和芯计算。#芯片 #芯片技术 #科技 #dou上热门 #抖加小助手

125. 光刻机不是唯一难关，日本业内放话制约中国芯片，底气到底从哪来

126. 国产光刻胶现状：高端不足1%，突破之路在哪？

127. 南大光电：ArF光刻胶已有六款验证通过并销售

128. “中国芯”高端领域如何破局，何时能实现自主？

129. 2025光刻胶产业链研究报告

130. 半导体⑨：28nm光刻机如何变出7nm芯片丨自制学习流程图

131. 美国禁令一出，ASML大跌5%，中国或成独立制造光刻机的国家

132. 中国产光刻胶，如何突围？中国67%光刻胶依赖日本，日本60%稀土依赖中国。目前日本进口的稀土中，大约60%来自中国。另外一边，光刻胶是芯片制造的关键材料，中国67%光刻胶进口依赖日本，高端KrF/ArF光刻胶国产化率仅5%，EUV完全依赖进口，市场被JSR、东京应化、信越化学、富士胶片垄断超过90%。 #光刻胶 #芯片制造 #日本 #进出口贸易 #出口退税

133. 国产高端光刻胶批量供货：KRF/ARF关键技术全面突破，打破海外垄断，支撑7nm及以下先进制程国产替代

134. 重磅！国产光刻机中标1.1亿元大单

2030年纯国产7nm芯片能否真正落地？

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