纳米压印光刻技术，能否超越ASML?佳能即将推出新型光刻机 FPA-1200NZ2C

佳能即将推出的革命性光刻机 FPA-1200NZ2C，标志着半导体制造技术的一大步。根据英国金融时报的报道，佳能高级管理人员武石洋明最近透露，这款采用纳米压印技术的设备，预计将在今年或明年正式上市。

这款光刻机的核心技术是纳米压印光刻（NIL），能够将带有半导体电路图案的掩模准确压印在晶圆上。这种方法不仅可以形成复杂的二维或三维电路图案，而且理论上通过不断改进掩模技术，甚至有望生产出 2nm 级别的芯片。

对于规模较小的半导体制造商而言，这不仅是技术上的突破，更是在生产先进芯片时的新选择。御手洗富士夫的附言强调了这一点。

更引人注目的是，佳能的这款光刻机在价格方面的竞争力。御手洗富士夫表示，其价格将比 ASML 的 EUV 光刻机“少一位数”，这预示着佳能在高科技领域的强劲竞争力和市场潜力。

作为科技领域的重大进展，佳能新型光刻机的推出，无疑将对整个半导体产业产生深远影响。

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