30亿元/台！全球首台顶级光刻机出货 支持后2nm工艺

来源——硬件世界

光刻机龙头ASML宣布，全球首台最强光刻机第二代High NA EUV已经出货。

按照官方的说法，EXE:5200是ASML对现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进版本，首个买家是Intel，一台售价近30亿元。

相比初代High NA EUV光刻机EXE:5000来说，EXE:5200拥有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185片以上），可以更好的为2nm工艺量产做支撑。

TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55数值孔径，比前代EUV光刻机0.33数值孔径透镜的精度提高了，可以为更小的晶体管功能提供更高分辨率的模式。

EUV 0.55 NA的设计旨在从2025年开始实现多个未来节点，这是业内首次部署，随后将采用类似密度的内存技术。

需要注意的是，这种高精尖的光刻机，ASML是不可能卖——，这不是钱的问题，而是其他因素。

但是，我们的科研人员，也不是吃素的！

据国光量子介绍，近日国光量超在量子芯片制造领域取得重大突破，推出4英寸1nm精度离子束刻蚀机。

离子束刻蚀机是量子芯片制造过程中的关键设备，通过使用高能离子束精确去除材料，实现对芯片微观结构的精细加工。

国光量超的这款离子束刻蚀机采用了自主研发的先进技术，能够实现亚纳米级别的刻蚀精度，满足量子芯片对微小尺寸和复杂结构的严格要求。

同时，该设备还具备高稳定性和高效率的特点，能够大幅缩短量子芯片的生产周期，降**造成本。

国光量超的离子束刻蚀机还具备多项创新特性，包括独特的离子源设计、高精度的束流控制系统和自动化的工艺监测功能，能够有效提高刻蚀过程的可控性和一致性，进一步提升量子芯片的性能和良品率。

此次国光量超离子束刻蚀机的成功推出，有望加速量子计算产业的发展，彻底解除量子计算芯片生产的瓶颈。